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        Eksma 高反射鍍膜

        簡要描述:Eksma 高反射鍍膜
        多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

        • 產品品牌:Eksma
        • 廠商性質:經銷商
        • 更新時間:2026-02-07
        • 訪  問  量:1457

        詳細介紹

        品牌Eksma價格區間面議
        組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

        Eksma 高反射鍍膜




        Eksma 高反射鍍膜

        介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較大可能反射率的疊層。

        產品介紹

        多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

        激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應用,在這些應用中,甚至可能會有很小的損失。

        請發送帶有鍍膜和基材代碼的定制產品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。

        EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
        EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
        EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
        公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
        EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
        公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

        產品型號

        高反射率激光線鍍膜

        鍍膜型號

        波長

        反射率(%)

        推薦

        損傷

        AOI=0°


        AOI=45°


        nm


        AOI=0°

        AOI=45°

        基材

        閾值

        1007-i0

        1007-i45

        226

        >99

        >99

        UVFS

        1 J/cm2
        in 10 ns

        1009-i0

        1009-i45

        248

        >99

        >99

        UVFS

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1011-i0

        1011-i45

        266

        >99.5

        >99

        UVFS

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1013-i0

        1013-i45

        308

        >99.5

        >99.2

        UVFS

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1015-i0

        1015-i45

        325

        >99.5

        >99.2

        UVFS

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1017-i0

        1017-i45

        337

        >99.7

        >99.5

        UVFS

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1019-i0

        1019-i45

        355

        >99.7

        >99.5

        UVFS

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1021-i0

        1021-i45

        400

        >99.7

        >99.5

        UVFS

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1023-i0

        1023-i45

        473

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1024-i0

        1024-i45

        488-515

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1025-i0

        1025-i45

        532

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1027-i0

        1027-i45

        589

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1029-i0

        1029-i45

        616

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1030-i0

        1030-i45

        633

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1031-i0

        1031-i45

        780

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1032-i0

        1032-i45

        800

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1033-i0

        1033-i45

        830

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1034-i0

        1034-i45

        852

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1037-i0

        1037-i45

        1064

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        5 J/cm2
        in 10 ns

        1039-i0

        1039-i45

        1320

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1045-i0

        1045-i45

        1550

        >99.7

        >99.5

        UVFS, BK7

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1047-i0

        1047-i45

        2000

        >99

        >99

        UVFS, Sapphire

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1049-i0

        1049-i45

        2100

        >99

        >99

        UVFS, Sapphire

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

         

        高反射率寬帶涂層

        鍍膜型號

        波長

        反射率(%)

        推薦

        損傷

        AOI=0°


        AOI=45°


        nm


        AOI=0°

        AOI=45°

        基材

        閾值

        1106-i0

        1106-i45

        220-250

        >99

        >99

        UVFS

        1 J/cm2 in 10 ns

        1110-i0

        1110-i45

        260-340

        >99

        >99

        UVFS

        1 J/cm2
        in 10 ns

        1114-i0

        1114-i45

        350-450

        >99

        >99

        UVFS

        1 J/cm2
        in 10 ns

        1116-i0

        1116-i45

        420-680

        >99

        >99

        UVFS, BK7

        1 J/cm2
        in 10 ns

        1130-i0

        1130-i45

        600-900

        >99

        >99

        UVFS, BK7

        1 J/cm2
        in 10 ns

        1132-i0

        1132-i45

        720-880

        >99

        >99

        UVFS, BK7

        1 J/cm2
        in 10 ns

        1133-i0

        1133-i45

        760-840 nm

        >99

        >99

        UVFS, BK7

        1 J/cm2
        in 10 ns

        1142-i0

        1142-i45

        900-1100

        >99

        >99

        UVFS, BK7

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

        1144-i0

        1144-i45

        1100-1400

        >99

        >99

        UVFS, BK7

        1.5 J/cm2
        in 10 ns

         EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
        EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
        EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
        公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
        EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
        公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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