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        硬核干貨 | 制造高性能FBG的核心機密:相位掩模版(Phase Mask)全解析

        更新時間:2026-03-25  |  點擊率:110

        導語

        在當今的高性能光學網絡和高精度光纖傳感系統中,光纖布拉格光柵(FBG)無疑是剛需的核心元器件。無論是用于密集波分復用(DWDM)的波長選擇,還是長距離通信中的色散補償,FBG都扮演著“光頻濾波器"的關鍵角色。

        但是,你知道這些精密的光柵是如何被“刻"進纖芯里的嗎?

        答案就是FBG制造領域的前沿化技術——相位掩模版(Phase Mask)。今天,韻翔光電將帶您深入硬核的光學微細加工世界,全面解析相位掩模版的工作原理、經典配置公式,以及如何為您的關鍵任務選擇最合適的掩模版產品。

         

        01. 揭開相位掩模版的神秘面紗

        簡單來說,相位掩模版是一種表面起伏光柵(Surface Relief Grating),通常采用高純度的紫外線透明熔融石英(如Corning 7980)精密蝕刻而成。

        在實際應用中,它本質上是一個高精度的衍射光柵當紫外(UV)單色光束照射到相位掩模版上時,光束會被分成兩束出射光。這兩束光在重疊區域發生干涉,形成明暗相間的干涉條紋圖樣。

        img1 

        圖 1. 相位掩模是在熔融石英上刻蝕的表面浮雕光柵。

        img2 

        圖 2. 相位掩模產生兩束衍射光,二者交疊區域形成干涉圖樣。

        它是如何制造FBG的?我們將一段經過光敏化處理(如摻雜鍺、硼等)的二氧化硅光纖放置在這個干涉場中。光纖纖芯在紫外線高強度條紋的照射下,折射率發生長久性改變。最終,纖芯內部就形成了一個折射率周期性調制的結構——這就是光纖布拉格光柵(FBG)。

        在實際工作中,FBG就像一個極其精準的“窄帶抑制濾波器":它會高度反射特定波長的光,而讓其他波長的光無衰減地通過。

        img3 

        3. 相位掩模本身屬于光柵,可用于刻寫其他光柵,例如光纖布拉格光柵(FBG)。

        img4 

        4. 光纖布拉格光柵是位于光纖纖芯中的波長選擇性濾波器。

         

        02. 硬核解析:相位掩模版的兩大經典配置

        在指定標準或定制相位掩模版時,必須進行精確的計算。通常,相位掩模版會在 +1/-1 或 0/-1 兩種配置下運行(數字代表包含主要能量的衍射級數)。

        img5 

        5. 采用 ?1/+1 構型(上圖)與 0/?1 構型(下圖)的相位掩模示意圖。

         

        配置:+1 / -1 配置(垂直入射)

        這是常見的配置方式。紫外線以垂直入射的方式對準相位掩模版。

        根據光柵方程:sinΘm=mλUV/ΛPM(其中λUV為紫外波長,ΛPM為掩模版周期)

        【核心結論】 在這種配置下,由 +1 和 -1 階光束干涉產生的條紋周期,恰好是相位掩模版光柵周期的一半(ΛFBG=ΛPM/2,且與入射紫外光的波長無關!

        韻翔光電的技術優勢:為了保證干涉條紋的較高對比度,我們的 PMT 相位掩模版經過了極限優化:+1 和 -1 階的衍射效率被較大化(>33%),而 0 階衍射被嚴格抑制在極低水平(<3%),同時高階衍射也被最小化。

        img6 

        圖 6. +1/?1 相位掩模構型

        配置二:0 / -1 配置(特定角度入射)

        在這種配置下,紫外線以特定的入射角射向掩模版,滿足條件 |Θ?|=|Θ??| ,確保干涉條紋垂直于掩模版表面。

        所需的入射角公式為:|sinΘin |=λUV/(2ΛPM)

        【核心結論】 如果滿足特定波長條件,系統中將只有 0 階和 -1 階兩束光,充分消除了其他高階光束的干擾,保證了極其干凈的條紋圖案。此時,干涉條紋的周期盡數等于相位掩模版的周期(ΛFBG=ΛPM

        img7 

        圖 7. +0/?1 相位掩模構型

         

        03. 韻翔光電:滿足您一切需求的產品矩陣

        無論您是制造標準的通信光柵,還是復雜的色散補償模塊,韻翔光電都能提供優秀的相位掩模版解決方案。我們的產品采用全息記錄技術,具有較高的周期精度和損傷閾值。

        1.       統一相位掩模版(RPM)& 啁啾相位掩模版(RPMC)

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         特點: 矩形基板易于對準,光柵長度 20mm - 45mm。

         精度: 周期測量精度高達 ±0.02 nm,0階衍射 <3%。

         應用: DWDM濾波器、分插模塊、激光器鎖頻、EDFA增益平坦濾波器。

        注:RPMC提供 0.03 to 40 nm/cm 的寬廣啁啾范圍。

        2.       長相位掩模版(LPM & LPMC)

        img9 

         特點: 專為長光柵設計,光柵長度可達 120 mm

         應用: 色散補償光柵(DCG)、長距離數字波分復用、超窄帶濾波器。

        3.       定制相位掩模版(用于光波導/集成光學)

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         特點: 專為平面波導光柵設計,支持 3英寸至5英寸的大尺寸基板。

         應用: 硅基二氧化硅(Silicon-on-Insulator)及其他新興集成光路技術中的體積光柵和表面起伏光柵的自動化制造。

         

        結語

        相位掩模版的制造涉及微細加工和全息技術領域最復雜、苛刻的工藝。一個微小的周期誤差或0階衍射的泄露,都可能導致整個光纖網絡性能的下降。

        選擇高品質的相位掩模版,就是為您的光學器件注入精準的“基因"。

        【行動號召】

        正在為您的 FBG 或波導光柵項目尋找優秀的相位掩模版?韻翔光電為您提供從標準品到深度定制的全面服務。我們的掩模版支持 190-400nm 工作波長,抗激光損傷閾值高(>1 J/cm2 @248nm)。

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